山巍[06](“未来的合作对象或许是华...)（1/2）

“蓝河科技与申市微电子科技达成战略合作, 共同组装13.5nmEUV，已完成仿真建模的初步阶段。同时水木大学的朱教授传来双工作台系统核心技术被攻破、南大光电研发的ArF光刻胶进度飞速，申市和春城光机所一直承接国家02专项光学系统……”

“蓝河科技有信心于今年年底完成13.5nm极紫外光刻机的工程验收。”盛明安顿了顿, 环顾演讲厅一圈, 询问：“有要提问的吗？”

――

全场安静，没人提问。

盛明安挑眉, 学术圈不是很挑剔的吗？

一般来说, 有关学术的研讨会都会引来大批听起来很像刁难的提问，上午的主题演讲和前几个专题研讨会后期举手询问的人很多, 哪怕是某场非常敷衍的演讲也有主办方提前安排演员举手提问, 以免出现冷场的尴尬局面。

怎么轮到他了, 却没人提问？

难道是他承诺年底完成13.5nm光刻机工程验收太夸张，没有人相信？

他平时没这么冒进, 只是莫伦科夫等人的做法太卑鄙让他难得生出怒气, 这才抛弃原先保守的演讲，进而依靠前世研发组装光刻机的知识临时丰富演讲内容、大胆预言年底交出令世人瞩目的完美答卷。

但这也不算夸大海口，在盛明安原先的计划里, 他确实打算年底完成一台13.5nm光刻机验收, 明年第一季度售出可量产的高阶EUV。

盛明安不慌不忙，对着话筒再问一遍：“在场还有没有问题？”

“――”

安静持续两秒, 下一刻掌声如雷鸣, 底下坐着的人一大半都起身激动鼓掌, 前排的大佬们还算矜持，只含笑鼓掌。

而高通高管、ASML高管之流面色难看，僵直不动。

莫伦科夫转头低声询问左手旁的ASML高管：“他说的话是真实的吗？蓝河科技是不是能够造出优于ASML的EUV？”

ASML高管忧心忡忡：“如果他们攻破了13.5nm的光源系统技术, 优于ASML的EUV确实……很可能被攻破！”

“！！”莫伦科夫：“技术被封锁的华国人怎么可能造得出复杂的光刻机？”

他紧皱眉头，阴鸷的看向台上的盛明安：“他是谁？我从来没有听说过他――华国人盗窃了我们的技术？！”

ASML高管摇头否定：“虽然都是高阶极紫外光刻机, 但显然核心技术不一样。”

盛明安演讲内容不涉及核心技术，只描述了轮廓，可是ASML高管已经能从轮廓分别出技术的不同。

更何况ASML的核心技术分别掌握在不同国家的企业，而这些企业传承四五十年甚至上百年，无论是核心技术的保密还是专利的保护，只有他们坑人的份。

ASML高管这么一说，莫伦科夫脸上血色全无，讪讪闭嘴，但心情直掉谷底。

前三排受邀嘉宾若有所思，有人侧身询问天野浩：“天野先生，您听明白了吗？”

天野浩点头：“他说了一个基础轮廓，大方向没有出错。如果可以，我希望能够亲自去一趟蓝河科技参观光源系统设备。”

“您的意思是说他们真的攻破EUV的技术？！”

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