第90章 光刻机制作完成（1/2）

第90章 光刻机制作完成

李卫东接下来的日子，过的还算平静，并没有发生什么事情。

李卫东天天呆在研究所工作，晚上就和周晓琳过幸福的两人生活，偶尔晚上出去找陈雪茹，徐慧珍聊聊人生，周末的时候就教授，张海洋这群小屁孩儿练拳，时间就这么一天天过去，直到光刻机最后一个零件加工完成。

李卫东就带领着，兴奋的研究所技术人员们，开始了组装光刻机。经过三天的组装，光刻机终于组装好了。

这意味着种家的第一台真正意义上的光刻机，终于在研究所人员的不懈努力下诞生了。不过是否真正的成功，还需要制作芯片来试验一下。

光刻机的功能说起来很简单，那就是通过光线，投射到光刻胶上，带半导体芯片上制作出精细的电路图。

为了及时满足，光刻机实验需要的半导体芯片，在组装光刻机的过程中，李卫东就安排了人员及时为半导体芯片进行掩膜。

掩膜是一种特殊的光刻板，用于将设计好的电路图案，转移到硅片的表面。

掩膜制造是芯片制造过程中重要的步骤。眼膜上的图案决定芯片电路的结构和功能。

掩膜最主要的是设计好芯片的电路图案，这一步现在可没有计算机帮忙，全都是依靠一笔一划动手搞上去的，手动设计芯片电路图案，并生成相应的掩膜图案。

在所有人的期待下，李卫东亲自动手，开始了光刻机的第一张芯片制作。

掩膜装到光刻机内，然后李卫东拿出准备好的芯片基片。

这个基片是用硅片切割制作成的，李卫东小心翼翼的将基片放入专门清洗器内，将表面清洁干净，以确保后续加工步骤的准确性和精度。

随后，基片进入涂覆设备内，光刻机也自动在基片上将光刻胶涂覆在其表面。

通过旋转徒步的方式进行，确保光刻胶的选择和涂布过程中，不会对最终芯片质量产生不好的影响。

从清洗基片到涂覆光刻胶，都有专门的设备，该设备连接在光刻机上。

很快，光刻胶涂覆好的基片开始进入到光刻机的曝光室中。李卫东操作着光刻机的控制系统，将激光射线投射到光刻胶上，从而在其表面制造出所需的图案和结构。

因为光刻机本身只有一些集成电路，因此李卫东还需要手动，进一步通过控制光束的聚焦和位置，将光线投射到基片的正确位置上。

几片完成曝光后，需要将光刻胶进行显影，已去除未曝光的部位。

而到了这一步，那就只能等待了。在基片转移到显影液中浸泡光刻胶，从而将为曝光的部分溶解掉留下所需的芯片图案和结构。

这个过程并不需要太长的时间。当李卫东取出浸泡之后的基片，确保芯片的图案和结构完整无缺。

此刻，不单单是李卫东无比激动，在这关键的一步之中，现场所有人也全都忍不住屏住了呼吸。

只见李卫东小心翼翼的对半导体芯片进行了清理，已去除显影液和其他的污染物。

当然，清洗的过程肯定不是拿着抹布擦，而是有专门的清洗室。

直接将芯片浸泡在清洗的特殊溶液中，然后用高压气体喷射和旋转清洗半导体芯片的表面，以确保半导体芯片表面干净无尘。

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